反射膜厚仪-Mapping系列,相比标准版FT100和FT400,Mapping 版本新增了自动扫描功能,可对晶圆、玻璃片、光学元件等样品实现大范围膜厚分布测量。 系统具备高精度、非接触、快速测量、自动化的特点,适用于科研和生产过程中对膜厚均匀性、工艺稳定性的检测与分析。反射膜厚仪-Mapping系列将单点的高精度与平面的高洞察力完美结合,以其非接触、全自动、易集成的卓越特性,为您提供全域、高效、无损的薄膜质量解决方案。
反射膜厚仪-Mapping系列,相比标准版FT100和FT400,Mapping 版本新增了自动扫描功能,可对晶圆、玻璃片、光学元件等样品实现大范围膜厚分布测量。 系统具备高精度、非接触、快速测量、自动化的特点,适用于科研和生产过程中对膜厚均匀性、工艺稳定性的检测与分析。反射膜厚仪-Mapping系列将单点的高精度与平面的高洞察力完美结合,以其非接触、全自动、易集成的卓越特性,为您提供全域、高效、无损的薄膜质量解决方案。
高精度与高重复性: 基于先进的光学反射原理与精密的算法模型,我们的设备能够实现纳米精度的测量精度,并具备极高的重复性。无论是单层膜还是复杂的多层膜堆叠,都能确保每一次测量数据的稳定可靠,为工艺开发和品质控制提供坚实的数据基础。
非接触无损测量: 采用完全光学非接触式测量,彻底避免了对待测样品的划伤或污染。这一特性尤其适用于测量晶圆、光掩膜、柔性显示材料等昂贵或娇贵的样品,在测量的同时完美保护您的产品。
核心优势:自动Mapping功能: 这是区别于传统设备的革命性功能。用户可轻松设定扫描区域和步长,设备即可自动执行面扫描,快速生成薄膜厚度、折射率等参数的二维分布图。这不仅取代了繁琐低效的“盲人摸象”式单点测量,更能直观地揭示薄膜的均匀性、发现局部缺陷,让工艺优化有的放矢。
多样化数据输出: 测量结果不再局限于孤立的数字。我们提供包括厚度分布云图、均匀性统计报告(最大值、最小值、平均值、标准差)、3D形貌图以及原始光谱数据在内的多种输出格式。丰富的数据形态,既能满足产线快速判定的需求,也能为研发部门的深度分析提供全面支持。
易于集成: 设备设计充分考虑了工业应用的灵活性。提供标准的软件接口(API)和硬件通讯协议,可轻松集成于您的自动化生产线、晶圆探针台或洁净机器人系统中,实现在线式或离线式自动化量测,无缝融入智能制造的各个环节。
| FT100-Mapping | FT400-Mapping | FT100-IR-Mapping | |
| 光源波长范围 | 380-850mm | 380-850mm | 950-1050nm |
| 测量范围(光学厚度) | 50nm-80μm | 50nm-80μm | 10μm-1mm |
| 测量重复性(RMS) | 0.1nm | 0.1nm | 5nm |
| 测量绝对精度 | 2nm或0.4%(以最大值为准) | 2nm或0.4%(以最大值为准) | 50nm或0.5%(以最大值为准) |
| 入射角度 | 90° | 90° | 90° |
| 光斑尺寸 | 标准1.5mm | 40μm | 标准1.5mm |
| 单点测量时间 | 4ms-1s | 4ms-1s | 4ms-1s |
| 最大测量时间 | 40s(单层121点) | 40s(单层121点) | 40s(单层121点) |
| Mapping支持 | 晶圆/玻璃片/光学基片 | 晶圆/玻璃片/光学基片 | 晶圆/玻璃片/光学基片 |
| 支持尺寸 | 5寸/6寸/8寸/12寸 | 5寸/6寸/8寸/12寸 | 5寸/6寸/8寸/12寸 |
| 测量点位 | 5/9/25/149/81/121 | 5/9/25/149/81/121 | 5/9/25/149/81/121 |
| 结果输出 | 膜厚分布图、统计分析、CSV数据 | 膜厚分布图、统计分析、CSV数据 | 膜厚分布图、统计分析、CSV数据 |
欢迎致电:
400-882-1301
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