利用光学干涉,采用微米级聚焦光斑,通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱,快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息,广泛应用于半导体镀层、液晶显示器、光学镀层和生物医学等领域。
利用光学干涉,采用微米级聚焦光斑,通过分析薄膜表面反射光和薄膜与基底界面反射光相干涉形成的反射光谱,快速准确测量薄膜厚度、光学常数等信息,广泛应用于半导体镀层、液晶显示器、光学镀层和生物医学等领域。
1.高精度、高稳定性无损测量。
2.支持小尺寸光斑定制。
3.可用于薄膜厚度均匀性测量,生成多点报表。
4.可测量高曲率样品,在极小测量视场范围场景同样适用。
5.可测量表面粗糙样品、带图形样品,精准定位待测区域。
6.光斑可视,搭配位移台,使定位测量使用更便捷。
正视图
侧视图
后视图
正视图
侧视图
后视图
波长范围 | 400-850nm |
测量范围(光学厚度) | 50nm-80μm |
测量重复性(RMS) | 0.4nm |
测量绝对精度(与椭偏仪对比) | 2nm或0.4%(以最大值为准) |
入射角度 | 90° |
光斑尺寸 | 40μm |
测量时间 | 4ms-100ms |
基片测量范围 | 100mm,360° |
通信接口 | USB3.0 |
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